高性能ウェットスクラバー

風量：300CMM
処理物質：NOx、NO2
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：台湾台中

消霧システム

風量：200CMM
処理物質：MEA、BDG
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：台湾台中

高性能ウェットスクラバー

風量：12,500CMH
処理物質：HF
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：中国昆山

消霧システム

風量：12CMM
処理物質：NMF、DGME、MBE、DGBE、Amine
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：台湾新竹

消霧システム

風量：183CMM
処理物質：MEA、BDG
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：台湾台中

消霧システム

風量：183CMM
処理物質：MEA、BDG
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：台湾台中

冷却凝縮吸収システム

風量：500CMM
処理物質：油類
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：ベトナム
 

冷却凝縮吸収システム

風量：500CMM
処理物質：油類
製造工程：光電（半導体/液晶）
導入先所在地：ベトナム