半導体製造業

活性炭流動床

組合せ設備：前置冷却疑縮システム＋電熱式高温酸化炉
風量：800CMM
処理物質：Cyclopentanone / PGME / PGMEA / TMAH / IPA
製造工程：ウエハー封止・検査
導入先所在地：台湾新竹

活性炭素繊維濃縮システム

組合せ設備：低温触媒酸化炉
風量：150CMM
処理物質：IPA / Acetone / PGME / PGMEA / Xylene
製造工程：ウエハー封止・検査
導入先所在地：台湾新竹
 

ゼオライトローター

組合せ設備：低温触媒酸化炉
風量：400CMM
処理物質：IPA / Acetone / PGME / トルエン / メチルエチルケトン / 2-ブトキシエタノール / メチルイソブチルケトン / シクロヘキサノン
製造工程：半導体製造工程材料
導入先所在地：台湾台南