酸霧處理系統及單元

優勢介紹

  • 蝕刻線酸霧減量。
  • 除霧效率可達10μm、5μm、3μm、2μm-99%
  • 有效處理含有氫氟酸(HF)、鹽酸(HCl)、硫酸(H2SO4)、硝酸(HNO3)、磷酸(H2PO4)等蝕刻線酸煙及蒸汽。
  • 高效率、低維護成本,同時可降低洗滌塔加藥量、廢水處理量,降低操作成本。
  • 符合國際ESG趨勢。
 
系統特點
  • 使用於濕式洗滌塔的除霧層。
  • 垂直、水平電鍍蝕刻線的氣液分離器,化工製程霧滴捕集,除霧效率可達10μm、5μm、3μm、2μm-99%。
適用產業
  • 印刷電路板業、半導體業。
  • 光電面板產業、零部件清洗、電鍍業。
  • 酸洗線、石化業及製藥產業等。